Low-temperature fabrication of HfAlO alloy dielectric using atomic-layer deposition and its application in a low-power device
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所属单位：微电子学院
发表刊物：JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS Journal
全部作者：辛倩,李玉香,宋爱民
第一作者：马鹏飞
论文类型：基础研究
论文编号：493ECA4D2F7E4A1A8A8F23A9ED815A53
卷号：792
页面范围：543
是否译文：否
发表时间：2019-07-05
发表时间：2019-07-05