一种使用暗场光学成像技术判别二维材料层数的方法
点击次数:
所属单位:集成电路学院
专利类型:发明
申请号:202211106087.1
发明人数:4
是否职务专利:否
申请日期:2022-09-09
公开日期:2023-10-31
授权日期:2023-10-31
公开日期:2023-10-31
申请日期:2022-09-09
授权日期:2023-10-31
一种使用暗场光学成像技术判别二维材料层数的方法
点击次数:
所属单位:集成电路学院
专利类型:发明
申请号:202211106087.1
发明人数:4
是否职务专利:否
申请日期:2022-09-09
公开日期:2023-10-31
授权日期:2023-10-31
公开日期:2023-10-31
申请日期:2022-09-09
授权日期:2023-10-31