High-dose ion-implanted photoresist stripping in environmentally benign supercritical CO2 nonfluorous surfactant microemulsions
发布时间:2019-04-14 点击数:
所属单位:物理学院
论文名称:High-dose ion-implanted photoresist stripping in environmentally benign supercritical CO2 nonfluorous surfactant microemulsions
发表刊物:Microelectron. Eng.
第一作者:李玉香
全部作者:王卿璞
论文类型:应用研究
论文编号:lw-136618
卷号:96
页面范围:1
是否译文:否
发表时间:2012-08
