All-Oxide-Semiconductor-Based Thin-Film Complementary Static Random Access Memory
发布时间:2019-10-24 点击数:
所属单位:集成电路学院
论文名称:All-Oxide-Semiconductor-Based Thin-Film Complementary Static Random Access Memory
发表刊物:IEEE Electron Device Letters
第一作者:杨进
全部作者:辛倩,宋爱民,王一鸣,王卿璞,周莉
论文编号:2532544AF4F5476799F6AF1C6F32887A
卷号:39
期号:12
页面范围:1876
字数:4000
是否译文:否
发表时间:2018-11
