The effects of supercritical CO2 formulations on the removal of high-dose ion-implanted photoresists
发布时间：2019-10-30 点击数：
所属单位：集成电路学院
论文名称：The effects of supercritical CO2 formulations on the removal of high-dose ion-implanted photoresists
发表刊物：Microelectron. Eng.
第一作者：李波
全部作者：王卿璞,李玉香
论文编号：lw-147346
卷号：108
页面范围：50
字数：5
是否译文：否
发表时间：2013-04