The effects of supercritical CO2 formulations on the removal of high-dose ion-implanted photoresists
点击次数：
所属单位：集成电路学院
发表刊物：Microelectron. Eng.
全部作者：王卿璞,李玉香
第一作者：李波
论文编号：lw-147346
卷号：108
页面范围：50
字数：5
是否译文：否
发表时间：2013-04-06
发表时间：2013-04-06
教授 硕士生导师
性别：男
毕业院校：山东大学
学历：博士研究生毕业
学位：博士生
在职信息：在职
所在单位：微电子学院
入职时间：1987-07-01
职务：院党委书记、副院长
学科：微电子学与固体电子学
办公地点：高新区软件校区微电子学院3B202室
电子邮箱：wangqingpu@sdu.edu.cn
The effects of supercritical CO2 formulations on the removal of high-dose ion-implanted photoresists
点击次数：
所属单位：集成电路学院
发表刊物：Microelectron. Eng.
全部作者：王卿璞,李玉香
第一作者：李波
论文编号：lw-147346
卷号：108
页面范围：50
字数：5
是否译文：否
发表时间：2013-04-06
发表时间：2013-04-06