A Novel Thermally Evaporated Etching Mask for Low-Damage Dry Etching
发布时间：2019-10-24
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- 所属单位：
- 集成电路学院
- 发表刊物：
- IEEE Transactions on Nanotechnology
- 全部作者：
- 王一鸣,王卿璞,辛倩,韩琳,宋爱民
- 第一作者：
- 王汉斌
- 论文编号：
- E56E2B7ED1104702BAEB516FA27F194D
- 卷号：
- 16
- 期号：
- 2
- 页面范围：
- 290
- 是否译文：
- 否
- 发表时间：
- 2017-03-01