一种使用暗场光学成像技术判别二维材料层数的方法
点击次数：
所属单位：集成电路学院
专利类型：发明
申请号：202211106087.1
发明人数：4
是否职务专利：否
申请日期：2022-09-09
公开日期：2023-10-31
授权日期：2023-10-31
公开日期：2023-10-31
申请日期：2022-09-09
授权日期：2023-10-31
高级实验师 硕士生导师
性别：男
毕业院校：山东大学
学历：研究生(博士)毕业
学位：工学博士学位
在职信息：在职
所在单位：集成电路学院
入职时间：2002-07-16
职务：院工会主席、实验与实践中心副主任、集成电路工艺创新平台主任
一种使用暗场光学成像技术判别二维材料层数的方法
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所属单位：集成电路学院
专利类型：发明
申请号：202211106087.1
发明人数：4
是否职务专利：否
申请日期：2022-09-09
公开日期：2023-10-31
授权日期：2023-10-31
公开日期：2023-10-31
申请日期：2022-09-09
授权日期：2023-10-31