Suppressing Interfacial Layer Degradation in Hf0.5Zr0.5O2-based FeFETs Using a Pre-erase Strategy during Program/Erase Cycling

发布时间：2023-05-17

• 所属单位：
  信息科学与工程学院
• 发表刊物：
  IEEE Silicon Nanoelectronics Workshop (SNW)
• 第一作者：
  赵国庆
• 论文编号：
  8381582CD85E4FDCA9638158672E47B3
• 字数：
  3
• 是否译文：
  否
• 发表时间：
  2022-06