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论文成果
Significant Reliability Improvement by Inducing Dual Atomic-Thin Titanium Intercalation Layers in Hf<sub>0.5</sub>Zr<sub>0.5</sub>O<sub>2</sub> Films
  • 所属单位：
    信息科学与工程学院
  • 发表刊物：
    IEEE Electron Device Letters
  • 第一作者：
    台路
  • 论文编号：
    CF164AC117BB45CE8FAA0F82BEDC4AE4
  • 卷号：
    44
  • 期号：
    5
  • 页面范围：
    753
  • 字数：
    3000
  • 是否译文：
    否
  • 发表时间：
    2023-05-01

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