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Effect of epitaxial growth rate on morphological, structural and optical properties of beta-Ga2O3 films prepared by MOCVD

发布时间:2022-06-18
点击次数:
所属单位:
集成电路学院
发表刊物:
Materials Research Bulletin
第一作者:
王迪
论文编号:
4D4D953CCFCB46E68E85AE80D961AD64
卷号:
149
字数:
5
是否译文:
发表时间:
2022-05-01