Heteroepitaxial growth of the orthorhombic Ta2O5 single-crystalline films on epi-GaN/α-Al2O3 (0001) substrates by MOCVD
发布时间：2022-12-17
点击次数：
- 所属单位：
- 集成电路学院
- 发表刊物：
- Ceramics International
- 第一作者：
- 马瑾
- 论文编号：
- FC05275B00DC4305A1EC798416E4AF56
- 期号：
- 48
- 页面范围：
- 26800
- 字数：
- 5
- 是否译文：
- 否
- 发表时间：
- 2022-06-01