Low-temperature fabrication of HfAlO alloy dielectric using atomic-layer deposition and its application in a low-power device
发布时间:2019-06-06
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- 所属单位:
- 微电子学院
- 发表刊物:
- JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS Journal
- 全部作者:
- 辛倩,李玉香,宋爱民
- 第一作者:
- 马鹏飞
- 论文类型:
- 基础研究
- 论文编号:
- 493ECA4D2F7E4A1A8A8F23A9ED815A53
- 卷号:
- 792
- 页面范围:
- 543
- 是否译文:
- 否
- 发表时间:
- 2019-07-05