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Low-temperature fabrication of HfAlO alloy dielectric using atomic-layer deposition and its application in a low-power device

发布时间:2019-06-06
点击次数:
所属单位:
微电子学院
发表刊物:
JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS Journal
全部作者:
辛倩,李玉香,宋爱民
第一作者:
马鹏飞
论文类型:
基础研究
论文编号:
493ECA4D2F7E4A1A8A8F23A9ED815A53
卷号:
792
页面范围:
543
是否译文:
发表时间:
2019-07-05