Influence of Si-Doping on 45 nm Thick Ferroelectric ZrO2 Films.
发布时间：2026-04-01
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- 论文名称：
- Influence of Si-Doping on 45 nm Thick Ferroelectric ZrO2 Films.
- 发表刊物：
- ACS Applied Electronic Materials
- DOI码：
- 10.1021/acsaelm.2c00608
- 是否译文：
- 否
- 发表时间：
- 2022-07
- 发布时间：
- 2026-04-01