于法鹏 (教授)

教授 博士生导师 硕士生导师

性别:男

在职信息:在职

所在单位:晶体材料研究院(晶体材料全国重点实验室)

入职时间:2011-08-12

所属院系: 晶体材料研究院

   
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Effect and Mechanism of Hydrogen-Assisted Sulfur Intercalation for Decoupling Graphene from Cu(111) Substrate: A First-Principles Study

发布时间:2021-09-23   点击数:

所属单位:晶体材料研究院(晶体材料全国重点实验室)

论文名称:Effect and Mechanism of Hydrogen-Assisted Sulfur Intercalation for Decoupling Graphene from Cu(111) Substrate: A First-Principles Study

发表刊物:Applied Surface Science

第一作者:孙秀彩

论文编号:12AB62873ECC4F6B950A09ECBDD8B140

卷号:567

字数:5

是否译文:

发表时间:2021-08

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