一种基于化学气相沉积制备大尺寸单晶二维材料的方法
发布时间:2022-08-12 点击数:
专利名称:一种基于化学气相沉积制备大尺寸单晶二维材料的方法
所属单位:晶体材料研究院(晶体材料全国重点实验室)
专利类型:发明
申请号:202111037976.2
发明人数:4
是否职务专利:否
申请日期:2021-09-06
公开日期:2022-07-26
授权日期:2022-07-26
专利名称:一种基于化学气相沉积制备大尺寸单晶二维材料的方法
所属单位:晶体材料研究院(晶体材料全国重点实验室)
专利类型:发明
申请号:202111037976.2
发明人数:4
是否职务专利:否
申请日期:2021-09-06
公开日期:2022-07-26
授权日期:2022-07-26