一种基于化学气相沉积制备大尺寸单晶二维材料的方法
点击次数:
所属单位:晶体材料研究院
专利类型:发明
申请号:202111037976.2
发明人数:4
是否职务专利:否
申请日期:2021-09-06
公开日期:2022-07-26
授权日期:2022-07-26
公开日期:2022-07-26
申请日期:2021-09-06
授权日期:2022-07-26
一种基于化学气相沉积制备大尺寸单晶二维材料的方法
点击次数:
所属单位:晶体材料研究院
专利类型:发明
申请号:202111037976.2
发明人数:4
是否职务专利:否
申请日期:2021-09-06
公开日期:2022-07-26
授权日期:2022-07-26
公开日期:2022-07-26
申请日期:2021-09-06
授权日期:2022-07-26