一种调控腔体压强制备高质量单晶畴二维材料的方法
发布时间:2022-09-15 点击数:
专利名称:一种调控腔体压强制备高质量单晶畴二维材料的方法
所属单位:晶体材料研究院(晶体材料全国重点实验室)
专利类型:发明
申请号:202111288448.4
发明人数:4
是否职务专利:否
申请日期:2021-11-02
公开日期:2022-08-30
授权日期:2022-08-30
专利名称:一种调控腔体压强制备高质量单晶畴二维材料的方法
所属单位:晶体材料研究院(晶体材料全国重点实验室)
专利类型:发明
申请号:202111288448.4
发明人数:4
是否职务专利:否
申请日期:2021-11-02
公开日期:2022-08-30
授权日期:2022-08-30