一种调控腔体压强制备高质量单晶畴二维材料的方法
点击次数:
所属单位:晶体材料研究院
专利类型:发明
申请号:202111288448.4
发明人数:4
是否职务专利:否
申请日期:2021-11-02
公开日期:2022-08-30
授权日期:2022-08-30
公开日期:2022-08-30
申请日期:2021-11-02
授权日期:2022-08-30
一种调控腔体压强制备高质量单晶畴二维材料的方法
点击次数:
所属单位:晶体材料研究院
专利类型:发明
申请号:202111288448.4
发明人数:4
是否职务专利:否
申请日期:2021-11-02
公开日期:2022-08-30
授权日期:2022-08-30
公开日期:2022-08-30
申请日期:2021-11-02
授权日期:2022-08-30