Cu2O thin films deposited by reactive direct current magnetron sputtering
点击次数：
所属单位：晶体材料研究所
发表刊物：Thin Solid Films
第一作者：黄柏标
论文类型：基础研究
论文编号：lw-101475
卷号：517
期号：19
页面范围：5700
是否译文：否
发表时间：2009-08-03
发表时间：2009-08-03
教授 博士生导师 硕士生导师
性别：男
出生日期：1962-10-21
毕业院校：山东大学
学历：硕士研究生毕业
学位：博士生
在职信息：在职
所在单位：晶体材料研究院
入职时间：1986-07-01
学科：物理化学
无机化学
材料物理与化学
材料学
电子邮箱：bbhuang@sdu.edu.cn
Cu2O thin films deposited by reactive direct current magnetron sputtering
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所属单位：晶体材料研究所
发表刊物：Thin Solid Films
第一作者：黄柏标
论文类型：基础研究
论文编号：lw-101475
卷号：517
期号：19
页面范围：5700
是否译文：否
发表时间：2009-08-03
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