Structural and electrical properties of K0.5Bi0.5TiO3 thin films for ferroelectric field effect transistor applications
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所属单位：晶体材料研究所
发表刊物：Journal of Physics D-Applied Physics
全部作者：张晓阳,秦晓燕,尉吉勇
第一作者：黄柏标
论文类型：基础研究
论文编号：lw-79563
卷号：42
期号：4
是否译文：否
发表时间：2009-01-30
发表时间：2009-01-30