Structural and electrical properties of K0.5Bi0.5TiO3 thin films for ferroelectric field effect transistor applications
发布时间：2019-04-14 点击数：
所属单位：晶体材料研究所
论文名称：Structural and electrical properties of K0.5Bi0.5TiO3 thin films for ferroelectric field effect transistor applications
发表刊物：Journal of Physics D-Applied Physics
第一作者：黄柏标
全部作者：张晓阳,秦晓燕,尉吉勇
论文类型：基础研究
论文编号：lw-79563
卷号：42
期号：4
是否译文：否
发表时间：2009-01