Structural and electrical properties of K0.5Bi0.5TiO3 thin films for ferroelectric field effect transistor applications
发布时间：2019-10-24 点击数：
所属单位：晶体材料研究院（晶体材料全国重点实验室）
论文名称：Structural and electrical properties of K0.5Bi0.5TiO3 thin films for ferroelectric field effect transistor applications
发表刊物：Journal of Physics D-Applied Physics
第一作者：黄柏标
全部作者：尉吉勇,张晓阳,秦晓燕,黄柏标
论文编号：lw-79563
卷号：42
期号：4
是否译文：否
发表时间：2009-01