Cu2O thin films deposited by reactive direct current magnetron sputtering
发布时间：2019-10-24 点击数：
所属单位：晶体材料研究院（晶体材料全国重点实验室）
论文名称：Cu2O thin films deposited by reactive direct current magnetron sputtering
发表刊物：Thin Solid Films
第一作者：黄柏标
全部作者：黄柏标
论文编号：lw-101475
卷号：517
期号：19
页面范围：5700
字数：3000
是否译文：否
发表时间：2009-08