Intense Single Red Emission Induced by Near-Infrared Irradiation Using a Narrow Bandgap Oxide BiVO4 as the Host for Yb3+ and Tm3+ Ions
发布时间：2019-10-25 点击数：
所属单位：晶体材料研究院（晶体材料全国重点实验室）
论文名称：Intense Single Red Emission Induced by Near-Infrared Irradiation Using a Narrow Bandgap Oxide BiVO4 as the Host for Yb3+ and Tm3+ Ions
发表刊物：Advanced Optical Materials
第一作者：黄慧宁
全部作者：王泽岩,黄柏标,王朋,张晓阳,秦晓燕,戴瑛,周广军
论文编号：5467E6745DF34ECD945CAB27E3628563
卷号：6
期号：15
是否译文：否
发表时间：2018-08