Substrate-dependent ALD of Cu-x on TiO2 and its performance in photocatalytic CO2 reduction
点击次数：
所属单位：晶体材料研究院
发表刊物：Chemical Engineering Journal
第一作者：刘木
论文编号：ED47600EAFE546CD9C02E620B62FE9D0
卷号：405
字数：4000
是否译文：否
发表时间：2021-02-01
发表时间：2021-02-01
教授 博士生导师 硕士生导师
性别：男
出生日期：1962-10-21
毕业院校：山东大学
学历：硕士研究生毕业
学位：博士生
在职信息：在职
所在单位：晶体材料研究院
入职时间：1986-07-01
学科：物理化学
无机化学
材料物理与化学
材料学
电子邮箱：bbhuang@sdu.edu.cn
Substrate-dependent ALD of Cu-x on TiO2 and its performance in photocatalytic CO2 reduction
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所属单位：晶体材料研究院
发表刊物：Chemical Engineering Journal
第一作者：刘木
论文编号：ED47600EAFE546CD9C02E620B62FE9D0
卷号：405
字数：4000
是否译文：否
发表时间：2021-02-01
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