具有光催化CO2还原性能的四方相BiVO4材料及其制备方法和应用
发布时间：2023-09-06 点击数：
专利名称：具有光催化CO2还原性能的四方相BiVO4材料及其制备方法和应用
所属单位：晶体材料研究院（晶体材料全国重点实验室）
专利类型：发明
申请号：202210932854.8
发明人数：7
是否职务专利：否
申请日期：2022-08-04
公开日期：2023-07-28
授权日期：2023-07-28
专利名称：具有光催化CO2还原性能的四方相BiVO4材料及其制备方法和应用
所属单位：晶体材料研究院（晶体材料全国重点实验室）
专利类型：发明
申请号：202210932854.8
发明人数：7
是否职务专利：否
申请日期：2022-08-04
公开日期：2023-07-28
授权日期：2023-07-28