具有空间氧空位分布的BiVO4光催化材料及其制备方法与应用
点击次数:
所属单位:晶体材料研究院
专利类型:发明
申请号:202211164548.0
发明人数:8
是否职务专利:否
申请日期:2022-09-23
公开日期:2024-04-05
授权日期:2024-04-05
公开日期:2024-04-05
申请日期:2022-09-23
授权日期:2024-04-05
具有空间氧空位分布的BiVO4光催化材料及其制备方法与应用
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所属单位:晶体材料研究院
专利类型:发明
申请号:202211164548.0
发明人数:8
是否职务专利:否
申请日期:2022-09-23
公开日期:2024-04-05
授权日期:2024-04-05
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申请日期:2022-09-23
授权日期:2024-04-05