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山东大学
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贾志泰
教授
所属院部:
晶体材料研究院
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论文成果
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Rapid epitaxy of 2-inch and high-quality α-Ga2O3 films by Mist-CVD method
所属单位:
新一代半导体材料研究院
发表刊物:
Journal of Semiconductors
第一作者:
王晓杰
论文编号:
131FF0B9E69B46ADB8D020C55131783B
期号:
44
字数:
7
是否译文:
否
发表时间:
2023-04-03
上一条:
Anisotropic performances and bending stress effects of the flexible solar-blind photodetectors based on β-Ga2O3 (100) surface
下一条:
Growth and characterization of the β-Ga2O3 (011) plane without line-shaped defects
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