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Determination of the strain distribution for the Si3N4 passivated AlGaN/AlN/GaN heterostructure field-effect transistors

发布时间:2019-04-14
点击次数:
所属单位:
微电子学院
发表刊物:
Superlattices and Microstructures
全部作者:
林兆军
第一作者:
付晨
论文类型:
综合研究
论文编号:
9AD58E32C9FD442592342BDEB77341DC
卷号:
111
页面范围:
806
是否译文:
发表时间:
2017-11-01