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Enhanced effect of side-Ohmic contact processing on the 2DEG electron density and electron mobility of In0.17Al0.83N/AlN/GaN heterostructure field-effect transistors

发布时间:2019-04-14
点击次数:
所属单位:
微电子学院
发表刊物:
Applied physics A
论文类型:
综合研究
论文编号:
lw-164557
卷号:
116
是否译文:
发表时间:
2014-04-04