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High Breakdown Voltage P-GaN Gate HEMTs With Threshold Voltage of 7.1 V

发布时间:2024-12-19
点击次数:
所属单位:
新一代半导体材料研究院
发表刊物:
IEEE Electron Device Letters
第一作者:
陈思衡
论文编号:
CFFF4E6B36CF438F85A95FA554A9E105
卷号:
12
期号:
45
页面范围:
2343
字数:
3000
是否译文:
发表时间:
2024-12-01