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Preparation and characterization of transparent indium- doped TiO2 films deposited by MOCVD

发布时间:2019-10-24
点击次数:
所属单位:
微电子学院
发表刊物:
Ceramics International
全部作者:
冯先进,栾彩娜,马瑾
第一作者:
赵伟
论文类型:
基础研究
论文编号:
52DF21F161634C7D9EFAD74D5EDC702F
卷号:
43
期号:
11
页面范围:
8391
是否译文:
发表时间:
2017-08-01