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A Novel Thermally Evaporated Etching Mask for Low-Damage Dry Etching

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所属单位：微电子学院

发表刊物：IEEE Transactions on Nanotechnology

全部作者：王一鸣,王卿璞,辛倩,韩琳,宋爱民

第一作者：王汉斌

论文类型：基础研究

论文编号：E56E2B7ED1104702BAEB516FA27F194D

卷号： 16

期号：2

页面范围：290

是否译文：否

发表时间：2017-03-01

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