Low-temperature fabrication of HfAlO alloy dielectric using atomic-layer deposition and its application in a low-power device
发布时间：2019-10-24 点击数：
所属单位：集成电路学院
论文名称：Low-temperature fabrication of HfAlO alloy dielectric using atomic-layer deposition and its application in a low-power device
发表刊物：JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS
第一作者：马鹏飞
全部作者：李玉香,宋爱民,辛倩
论文编号：493ECA4D2F7E4A1A8A8F23A9ED815A53
卷号：792
页面范围：543
是否译文：否
发表时间：2019-07