Low-temperature fabrication of HfAlO alloy dielectric using atomic-layer deposition and its application in a low-power device
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所属单位:微电子学院
发表刊物:JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS
全部作者:辛倩,李玉香,宋爱民
第一作者:马鹏飞
论文类型:基础研究
论文编号:493ECA4D2F7E4A1A8A8F23A9ED815A53
卷号:792
页面范围:543
是否译文:否
发表时间:2019-07-05
发表时间:2019-07-05