Enhanced Lithography Performance with Imino/Imido Benzenesulfonate Photoacid Generator-Bound Polymer Resists

发布时间：2025-03-21

• 所属单位：
  国家胶体材料工程技术研究中心
• 发表刊物：
  Small
• 第一作者：
  刘越
• 论文编号：
  0EFD617AD3DF4747ABA77208E807326A
• 期号：
  2412297
• 字数：
  8
• 是否译文：
  否
• 发表时间：
  2025-03