研究领域和兴趣:
设计、合成新型高端光刻胶功能材料(尤其是亚10nm尺度的金属氧簇与键合型光敏单元结构),通过对其进行精准组分/结构调控和光刻性能表征,并重点结合光谱分析技术与量化计算模拟,在分子与团簇层面系统揭示光刻胶的光化学反应-图案成型构效关系。光刻胶材料体系主要包括:光酸键合聚合物化学放大光刻胶、金属氧化物纳米颗粒/纳米团簇型电子束光刻胶、面向先进制程的极紫外光刻胶等;关注的核心工艺环节包括均匀成膜、曝光显影、高分辨率图案转移、低线宽/线边缘粗糙度控制与抗刻蚀性优化等与半导体先进制造相关的光刻过程。
以第一或通讯作者身份在J. Am. Chem. Soc., Mater. Today, Small, Macromolecules等权威期刊发表学术论文二十余篇。申报中国发明专利十四项,其中7项已获授权。主持国自然青年基金和山东省自然青年基金等多项项目。