王倩倩
副研究员
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基本信息
  • 电子邮箱:
  • 入职时间:
    2023-08
  • 所在单位:
    国家胶体材料工程技术研究中心
  • 学历:
    博士研究生毕业
  • 办公地点:
    山东大学中心校区生北楼669
  • 性别:
    女
  • 联系方式:
  • 学位:
    博士
  • 毕业院校:
    北京师范大学
  • 硕士生导师
曾获荣誉:

2025    山东大学青年学者未来计划;
教师简介

研究领域和兴趣:

设计、合成新型高端光刻胶功能材料(尤其是亚10nm尺度的金属氧簇与键合型光敏单元结构),通过对其进行精准组分/结构调控和光刻性能表征,并重点结合光谱分析技术与量化计算模拟,在分子与团簇层面系统揭示光刻胶的光化学反应-图案成型构效关系。光刻胶材料体系主要包括:光酸键合聚合物化学放大光刻胶、金属氧化物纳米颗粒/纳米团簇型电子束光刻胶、面向先进制程的极紫外光刻胶等;关注的核心工艺环节包括均匀成膜、曝光显影、高分辨率图案转移、低线宽/线边缘粗糙度控制与抗刻蚀性优化等与半导体先进制造相关的光刻过程。

以第一或通讯作者身份在J. Am. Chem. Soc., Mater. Today, Small, Macromolecules等权威期刊发表学术论文二十余篇。申报中国发明专利十四项,其中7项已获授权。主持国自然青年基金和山东省自然青年基金等多项项目。

教育经历
  • 2013-09  — 2019-06
    北京师范大学
    高分子化学与物理
    理学博士学位
  • 2009-09  — 2013-06
    山东师范大学
    化学
    理学学士学位
工作经历
  • 2023-08-至今
    山东大学
  • 2019-07 — 2023-07
    清华大学
科研成果
论文

1.  王倩倩. Exceptional light sensitivity by thiol−ene click lithography.  J. Am. Chem. Soc.,  145,  3064-3074, 2023. 

2.  王倩倩. Suppressing of secondary electron diffusion for high-precision nanofabrication.  Materials Today,  67,  95-105, 2023. 

3.  邢士翠. Regulation and synthesis of mixed-ligand titanium-oxide nanoparticles for 12 nm nanolithography.  Small,  22,  e10779, 2025. 

4.  刘越. Enhanced Lithography Performance with Imino/Imido Benzenesulfonate Photoacid Generator-Bound Polymer Resists.  Small,  21,  2412297, 2025. 

5.  邢士翠. Solution Processing of Zirconium Oxide Metasurfaces for Tunable Structural Colors.  ACS Photonics,  13,  4813-4823, 2026. 

6.  李申申. Oxygen Inhibition Suppression by Photoinduced Electron Transfer in Oxime Ester/Triarylalkylborate Photoinitiators.  Macromolecules,  58,  2053, 2025. 

7.  王倩倩. Theoretical insights into the solubility polarity switch of metal-organic nanoclusters for nanoscale patterning.  Small Methods,  7,  2300309, 2023. 

8.  邢士翠. Electron beam lithography with carboxylate-modified TiO2 nanoparticles for sub-20 nm features.  Small Methods,  10,  1332, 2026. 

9.  郭雅娜. High patterning photosensitivity by a novel fluorinated copolymer formulated resist.  European Polymer Journal,  211,  113009, 2024. 

10.  李申申. Ambient condition and oxygen-tolerant photopolymerization from near-UV to blue light via naphthimide–borate synergy.  Polymer Chemistry,  16,  4637, 2025. 

11.  刘越. Polymerizable Nonionic Perfluorinated Photoacid Generators for High-Resolution Lithography.  Small Methods,  8,  2400112, 2024. 

12.  陶佩佩. Charge shielding-oriented design of Zinc-based nanoparticle liquids for controlled nanofabrication.  J. Am. Chem. Soc.,  145,  23609-23619, 2023. 

13.  李申申. Graphite Nitride Carbon (g-C3N4) and Borates as Near-UV Heterogeneous Photoinitiators for Acrylate Photopolymerization.  ACS Applied Polymer Materials,  6,  8721, 2024. 

14.  郭旭彬. Controlled in-situ reduction strategy for synthesis of transparent conductive metal meshes using tannic acid-based photoresists.  MICROELECTRONIC ENGINEERING,  290,  112196, 2024. 

15.  刘俊俊. Exceptional Lithography Sensitivity Boosted by Hexafluoroisopropanols in Photoresists.  Polymers,  16,  2024. 

16.  刘天棋. Ultrahigh-printing-speed photoresists for additive manufacturing.  Nature Nanotechnology,  19,  51, 2024. 

17.  王晓琳. Trends in photoresist materials for extreme ultraviolet lithography: A review.  Materials Today,  67,  299, 2023. 

18.  盛丽. Suppressing electrolyte-lithium metal reactivity via Li+-desolvation in uniform nano-porous separator.  Nature Communications,  13,  172, 2022. 

19.  胡子昱. Canny Algorithm Enabling Precise Offline Line Edge Roughness Acquisition in High-Resolution Lithography.  ACS Omega,  8,  3992, 2023. 

20.  王倩倩. One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning.  European Ploymer Journal,  114,  11-18, 2019. 

21.  王倩倩. A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application.  Reactive&Functional Plymers,  130,  118-125, 2018. 

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