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The Stripping Behavior of High-Dose Ion-Implanted Photoresists in Supercritical CO2 Formulations

发布时间：2019-10-30 点击数：

所属单位：集成电路学院

论文名称：The Stripping Behavior of High-Dose Ion-Implanted Photoresists in Supercritical CO2 Formulations

发表刊物：ECS J. Solid State Sci. & Tech.

第一作者：李波

全部作者：王卿璞,李玉香

论文编号：lw-147347

卷号：2

期号：4

页面范围：73

字数：5

是否译文：否

发表时间：2013-01

上一条： High-dose ion-implanted photoresist stripping in environmentally benign supercritical CO2 nonfluorous surfactant microemulsions

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王卿璞 (教授)