High-dose ion-implanted photoresist stripping in environmentally benign supercritical CO2 nonfluorous surfactant microemulsions
发布时间：2019-10-30 点击数：
所属单位：集成电路学院
论文名称：High-dose ion-implanted photoresist stripping in environmentally benign supercritical CO2 nonfluorous surfactant microemulsions
发表刊物：Microelectron. Eng.
第一作者：韩婷婷
全部作者：王卿璞,李玉香
论文编号：lw-136618
卷号：96
页面范围：1
字数：3800
是否译文：否
发表时间：2012-03