Mechanisms for enhanced ferroelectric properties in ultra-thin Hf0.5Zr0.5O2 film under low-temperature, long-term annealing

发布时间：2025-10-02

• 所属单位：
  信息科学与工程学院
• 发表刊物：
  APPLIED PHYSICS LETTERS
• 论文编号：
  1833778494273851394
• 卷号：
  125
• 期号：
  9
• 字数：
  3
• 是否译文：
  否
• 发表时间：
  2024-08