所属单位：

微电子学院

论文名称：

A Novel Thermally Evaporated Etching Mask for Low-Damage Dry Etching

发表刊物：

IEEE Transactions on Nanotechnology

第一作者：

王汉斌

全部作者：

王卿璞,辛倩,韩琳,宋爱民,王一鸣

论文类型：

基础研究

论文编号：

E56E2B7ED1104702BAEB516FA27F194D

卷号：

16

期号：

2

页面范围：

290

是否译文：

否

发表时间：

2017-03

发布时间：

2019-06-12