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张雷
正高级教师
所属院部:
晶体材料研究院
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论文成果
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Two-dimensional wide band-gap nitride semiconductor GaN and AlN materials: properties, fabrication and applications
所属单位:
新一代半导体材料研究院
发表刊物:
JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C
第一作者:
王忠新
论文编号:
F3FED4C133DB40B3836EECCB275AA9C5
期号:
7
页面范围:
17201
字数:
8000
是否译文:
否
发表时间:
2021-11-03
上一条:
Nucleation mechanism of GaN crystal growth on porous GaN/sapphire substrates
下一条:
Fabrication of a 2 inch free standing porous GaN crystal film and application in the growth of relaxed crack-free thick GaN
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