论文成果
Hydrogen Silsesquioxane (HSQ) Etching Resistance Dependence on Substrate During Dry Etching
  • 发表刊物:
    physica status solidi (a)
  • 全部作者:
    Kazy Shariar,Guangyang Lin,Peng Cui
  • 第一作者:
    Jie Zhang
  • 通讯作者:
    Yuping Zeng
  • 卷号:
    216
  • 期号:
    1
  • 页面范围:
    1800530
  • 是否译文:
  • 发表时间:
    2018-10-01
  • 收录刊物:
    SCI

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