Hydrogen Silsesquioxane (HSQ) Etching Resistance Dependence on Substrate During Dry Etching
发布时间：2021-11-29
-
发表刊物：
physica status solidi (a)
-
第一作者：
Jie Zhang
-
通讯作者：
Yuping Zeng
-
全部作者：
Kazy Shariar,Guangyang Lin,Peng Cui
-
卷号：
216
-
期号：
1
-
页面范围：
1800530
-
DOI码：
10.1002/pssa.201800530
-
是否译文：
否
-
发表时间：
2018-10
-
收录刊物：
SCI
