论文成果
Improved Electrical Performance of InAlN/GaN High Electron Mobility Transistors with Post Bis(trifluoromethane) Sulfonamide Treatment
发布时间:2022-12-27
  • 所属单位:
    新一代半导体材料研究院
  • 发表刊物:
    Crystals
  • 第一作者:
    崔鹏
  • 论文编号:
    D01F9BC84B5D49F29625A47921AE486F
  • 卷号:
    12
  • 期号:
    11
  • 页面范围:
    1521
  • 字数:
    3500
  • 是否译文:
  • 发表时间:
    2022-11
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