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The Mean Projected Range and Range Straggling of Er Ions Implanted in 6h Silicon Carbide
发布时间:2019-06-12
点击次数:
所属单位:
物理学院
发表刊物:
Adv. Mater. Res.
第一作者:
冀子武
论文类型:
基础研究
论文编号:
lw-141354
是否译文:
否
发表时间:
2012-01-01
上一条:
Influence of excitation power and temperature on photoluminescence in InGaN/GaN multiple quantum wells
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Investigation of the inhibiting outdiffusion of erbium atoms to a silicon-on-insulator surface after annealing at high temperature