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山东大学
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穆文祥
副教授
所属院部:
新一代半导体材料集成攻关大平台
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Growth and characterization of a 2-inch (102) plane β-Ga2O3 crystal via the edge-defined film-fed growth method
发布时间:2025-09-13
所属单位:
新一代半导体材料研究院
论文名称:
Growth and characterization of a 2-inch (102) plane β-Ga2O3 crystal via the edge-defined film-fed growth method
发表刊物:
CrystalEngComm
第一作者:
张晋
论文编号:
1915344281486123009
字数:
4000
是否译文:
否
发表时间:
2025-03
发布时间:
2025-09-13
上一条:
Suppression of Screw Dislocation-Induced Hillocks in MOCVD-Grown α-Ga2O3 on m-Plane Sapphire by Introducing a High-Temperature Buffer
下一条:
Single crystal growth and electrical properties modulation of ZnGa2O4
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