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穆文祥
副教授
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新一代半导体材料集成攻关大平台
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Suppression of Screw Dislocation-Induced Hillocks in MOCVD-Grown α-Ga2O3 on m-Plane Sapphire by Introducing a High-Temperature Buffer
发布时间:2025-09-13
所属单位:
新一代半导体材料研究院
论文名称:
Suppression of Screw Dislocation-Induced Hillocks in MOCVD-Grown α-Ga2O3 on m-Plane Sapphire by Introducing a High-Temperature Buffer
发表刊物:
CRYSTAL GROWTH & DESIGN
第一作者:
李竹程
论文编号:
1897579751978758146
字数:
4000
是否译文:
否
发表时间:
2025-02
发布时间:
2025-09-13
上一条:
The [010] tilt low angle grain boundaries in bulk β-Ga2O3 crystals grown by EFG method
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Growth and characterization of a 2-inch (102) plane β-Ga2O3 crystal via the edge-defined film-fed growth method
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