性别:女
在职信息:在职
所在单位:晶体材料研究院
入职时间:2011-08-16
手机版
最后更新时间:..
点击次数:
所属单位:晶体材料研究所
发表刊物:CrystEngComm
全部作者:陈秀芳,彭燕,胡小波,徐现刚
第一作者:杨祥龙
论文类型:基础研究
论文编号:5C7E420D9D96411ABAB320919607F80C
卷号:20
期号:43
页面范围:6957
是否译文:否
发表时间:2018-11-21
上一条: Growth of wafer size Graphene on SiC Substrates
下一条: 高纯半绝缘4H-SiC单晶的生长