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彭燕

性别:女

在职信息:在职

所在单位:晶体材料研究院

入职时间:2011-08-16

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Homoepitaxy Growth of Single Crystal Diamond under 300 torr Pressure in the MPCVD System

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所属单位:晶体材料研究院

发表刊物:MATERIALS RESEARCH BULLETION

全部作者:胡小波

第一作者:彭燕

论文类型:基础研究

论文编号:F209BBE71E53460D81B14BF05094935B

是否译文:

发表时间:2019-12-28

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