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辛倩
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Low-Voltage, Flexible IGZO Transistors Gated by PSSNa Electrolyte
所属单位:
微电子学院
发表刊物:
IEEE Electron Device Letters
全部作者:
徐明升,王卿璞,辛倩,宋爱民
第一作者:
杜路路
论文类型:
基础研究
论文编号:
E30636329F7F4201AB68DFD2CE8AC89E
卷号:
39
期号:
9
页面范围:
1334
是否译文:
否
发表时间:
2018-09-01
上一条:
Half-volt operation of IGZO thin-film transistors enabled by ultrathin HfO2 gate dielectric
下一条:
GaN metal-oxide-semiconductor high-electron-mobility transistors using thermally evaporated SiO as the gate dielectric
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