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Half-volt operation of IGZO thin-film transistors enabled by ultrathin HfO2 gate dielectric

发布时间:2019-10-25
点击次数:
所属单位:
集成电路学院
论文名称:
Half-volt operation of IGZO thin-film transistors enabled by ultrathin HfO2 gate dielectric
发表刊物:
APPLIED PHYSICS LETTERS
第一作者:
马鹏飞
全部作者:
辛倩,李玉香,宋爱民
论文编号:
BCE60C230EC744E29AE7416AA84BAF14
卷号:
113
期号:
6
是否译文:
发表时间:
2018-08
发布时间:
2019-10-25