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Half-volt operation of IGZO thin-film transistors enabled by ultrathin HfO2 gate dielectric

发布时间:2019-10-25
点击次数:
所属单位:
微电子学院
发表刊物:
Applied physics letters
全部作者:
辛倩,李玉香,宋爱民
第一作者:
马鹏飞
论文类型:
应用研究
论文编号:
BCE60C230EC744E29AE7416AA84BAF14
卷号:
113
期号:
6
是否译文:
发表时间:
2018-08-06