Half-volt operation of IGZO thin-film transistors enabled by ultrathin HfO2 gate dielectric
发布时间:2019-10-25
点击次数:
- 所属单位:
- 集成电路学院
- 论文名称:
- Half-volt operation of IGZO thin-film transistors enabled by ultrathin HfO2 gate dielectric
- 发表刊物:
- APPLIED PHYSICS LETTERS
- 第一作者:
- 马鹏飞
- 全部作者:
- 辛倩,李玉香,宋爱民
- 论文编号:
- BCE60C230EC744E29AE7416AA84BAF14
- 卷号:
- 113
- 期号:
- 6
- 是否译文:
- 否
- 发表时间:
- 2018-08
- 发布时间:
- 2019-10-25

