一种确定GaN晶体管纳米尺寸栅长二维电子气面密度的方法
点击次数:
所属单位:新一代半导体材料研究院
专利类型:发明
申请号:202310430551.0
发明人数:8
是否职务专利:否
申请日期:2023-04-18
公开日期:2024-01-30
授权日期:2024-01-30
公开日期:2024-01-30
申请日期:2023-04-18
授权日期:2024-01-30
一种确定GaN晶体管纳米尺寸栅长二维电子气面密度的方法
点击次数:
所属单位:新一代半导体材料研究院
专利类型:发明
申请号:202310430551.0
发明人数:8
是否职务专利:否
申请日期:2023-04-18
公开日期:2024-01-30
授权日期:2024-01-30
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申请日期:2023-04-18
授权日期:2024-01-30