论文成果
A systematic study of silicon nanowires array fabricated through metal-assisted chemical etching
发布时间:2024-12-20 | 点击次数:
所属单位:新一代半导体材料研究院
发表刊物:EPJ Applied Physics
第一作者:Zhang, Shiying
论文编号:D58755965997422B84F80300A9C71B3F
卷号:92
期号:3
字数:3000
是否译文:
发表时间:2020-12

徐庆君

应用研究员

性别:男

所在单位: 新一代半导体材料研究院

入职时间: 2020-11-01

所属院系: 新一代半导体材料集成攻关大平台

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