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所属单位：新一代半导体材料研究院

论文名称：Inductively coupled plasma etching of silicon carbide: a review

发表刊物：Journal of Materials Science: Materials in Electronics

第一作者：苑登文

全部作者：徐现刚,韩吉胜

论文编号：6BAF60ED38044EE2BD4AB079E0801583

期号：36

页面范围：2264

是否译文：否

发表时间：2025-12

发布时间：2025-12-31